專題製作 - 海報 專I

專題摘要：
本專題旨在深入探討刷帶式電化學機械拋光（ECMP）系統中的研磨力感知技術，通過分析面壓力與電流變化之間的相關性，建立即時監測研磨力的數據模型。目標在於提升研磨過程的控制精度，改善拋光表面的一致性與均勻性，並減少過拋現象。

發表學期：113-1

領域：智慧機械

組別：第 1 組

指導老師：洪榮洲教授

系級：二年級

學生姓名：夏德旭、朱冠諭