專題製作 - 海報 專IV

V2O5雷射還原製程開發

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專題摘要:
在奈米材料製備上,真空製程(CVD、蒸鍍及濺鍍)由於需要高真空、無汙染的製程環境,因此需採用昂貴的真空設備,使得材料製備成本高昂。透過雷射還原金屬氧化前驅物來製備氧化物奈米材料,具有製程時間短且可在常壓下進行製程等優點。

發表學期:109-2

領域:能源材料

組別:第 11 組

指導老師:陳一塵

系級:三年級

學生姓名:李嘉鑫、王智乾