專題製作 - 海報 專IV

專題摘要：
在奈米材料製備上，真空製程(CVD、蒸鍍及濺鍍)由於需要高真空、無汙染的製程環境，因此需採用昂貴的真空設備，使得材料製備成本高昂。透過雷射還原金屬氧化前驅物來製備氧化物奈米材料，具有製程時間短且可在常壓下進行製程等優點。

發表學期：109-2

領域：能源材料

組別：第 11 組

指導老師：陳一塵

系級：三年級

學生姓名：李嘉鑫、王智乾